

概要AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。主要特点和优点成膜效率高 通过提供几十毫秒量级的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。真空清洁,温度不均匀性小 通过紧
| 品牌 | SAMCO |
|---|---|
| 型号/系列 | AL-1 |
| 产品名称 | SAMCO(萨姆科)无针孔薄膜沉积 AL-1 |
| 分类 | 工业化学品 |
| 订货编码 | AL-1 |
| 产地 | 日本 |
概要AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。主要特点和优点成膜效率高 通过提供几十毫秒量级的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。真空清洁,温度不均匀性小 通过紧
适用于工业自动化设备、设备维修备件、产线改造、进口件替代、MRO 采购和工程选型场景。具体工况请结合品牌、型号、安装尺寸、接口和电气参数确认。
可协助确认原厂型号、同系列产品、替代型号、停产型号升级件、铭牌识别、图片寻源和非标定制需求。
如原型号停产、交期较长或价格波动,可提交品牌、型号、铭牌照片、设备应用和数量,由古屋电气协助评估替代方向。
提交询价AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂,仅利用表面反应沉积薄膜,实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外,可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø4英寸的晶片。
成膜效率高
通过提供几十毫秒量级的脉冲,减少了原材料的损耗,提高了沉积效率。
真空清洁,温度不均匀性小
通过紧贴反应室内壁的内壁加热器,抑制反应室的温度不均匀,可获得清洁的真空。
无针孔成膜
由于多种前驱体在反应室中没有混合,因此可以防止颗粒,形成无针孔的薄膜。
请提供品牌、型号、数量、使用行业、铭牌照片或旧件照片,古屋电气将协助确认供货、交期和替代可能性。
可以,可补充产品图片、铭牌、安装尺寸、接口、电压、功率、设备型号和应用场景。
可以,需要核对参数、安装尺寸、接口、精度、认证和现场工况,确认后再推荐替代方向。