SAMCO（萨姆科）等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC PD-2201LC
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SAMCO（萨姆科）等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC PD-2201LC
概要PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄
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产品参数
| 品牌 | SAMCO |
|---|---|
| 型号/系列 | PD-2201LC |
| 产品名称 | SAMCO（萨姆科）等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC |
| 分类 | 工业化学品 |
| 订货编码 | PD-2201LC |
| 产地 | 日本 |
简短介绍
概要PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄
应用行业
适用于工业自动化设备、设备维修备件、产线改造、进口件替代、MRO 采购和工程选型场景。具体工况请结合品牌、型号、安装尺寸、接口和电气参数确认。
可供应范围
可协助确认原厂型号、同系列产品、替代型号、停产型号升级件、铭牌识别、图片寻源和非标定制需求。
替代件与停产型号解决方案
如原型号停产、交期较长或价格波动，可提交品牌、型号、铭牌照片、设备应用和数量，由古屋电气协助评估替代方向。
提交询价概要
PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。
该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
主要特点和优点
- 最大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
- 优异的均匀性和应力控制
- 卓越的工艺稳定性和可重复性
- 坚固的系统，最低的运行/维护成本
- 用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储
- PD-2201LC设计时尚、节省空间，只需最小的洁净室空间
- 双频(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD，用于卓越的过程控制
应用
- SiH4-SiNx
- SiH4-SiO2
- 液体前驱体(SN-2)SiNx。
- TEOS-SiO2
FAQ
SAMCO（萨姆科）等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC PD-2201LC 如何确认能否供货？
请提供品牌、型号、数量、使用行业、铭牌照片或旧件照片，古屋电气将协助确认供货、交期和替代可能性。
型号不完整可以询价吗？
可以，可补充产品图片、铭牌、安装尺寸、接口、电压、功率、设备型号和应用场景。
停产或交期长时可以找替代件吗？
可以，需要核对参数、安装尺寸、接口、精度、认证和现场工况，确认后再推荐替代方向。