

概要PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统,能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积
| 品牌 | SAMCO |
|---|---|
| 型号/系列 | PD-220NL |
| 产品名称 | SAMCO(萨姆科)等离子体增强型CVD设备 PD-220NL |
| 分类 | 工业化学品 |
| 订货编码 | PD-220NL |
| 产地 | 日本 |
概要PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统,能够沉积硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)。该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积
适用于工业自动化设备、设备维修备件、产线改造、进口件替代、MRO 采购和工程选型场景。具体工况请结合品牌、型号、安装尺寸、接口和电气参数确认。
可协助确认原厂型号、同系列产品、替代型号、停产型号升级件、铭牌识别、图片寻源和非标定制需求。
如原型号停产、交期较长或价格波动,可提交品牌、型号、铭牌照片、设备应用和数量,由古屋电气协助评估替代方向。
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该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜,并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面,用于参数控制和配方存储。该系统是研发用薄膜沉积以及试生产的理想选择。
SiH4-SiNx
SiH4-SiO2
液体前驱体(SN-2)SiNx。
TEOS-SiO2
请提供品牌、型号、数量、使用行业、铭牌照片或旧件照片,古屋电气将协助确认供货、交期和替代可能性。
可以,可补充产品图片、铭牌、安装尺寸、接口、电压、功率、设备型号和应用场景。
可以,需要核对参数、安装尺寸、接口、精度、认证和现场工况,确认后再推荐替代方向。