SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPC RIE-800iPC
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SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPC RIE-800iPC
概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。 可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统 排气系统直接连接到
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面议 (税率:13%)
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产品参数
| 品牌 | SAMCO |
|---|---|
| 型号/系列 | RIE-800iPC |
| 产品名称 | SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPC |
| 分类 | 工业化学品 |
| 订货编码 | RIE-800iPC |
| 产地 | 日本 |
简短介绍
概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。 可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统 排气系统直接连接到
应用行业
适用于工业自动化设备、设备维修备件、产线改造、进口件替代、MRO 采购和工程选型场景。具体工况请结合品牌、型号、安装尺寸、接口和电气参数确认。
可供应范围
可协助确认原厂型号、同系列产品、替代型号、停产型号升级件、铭牌识别、图片寻源和非标定制需求。
替代件与停产型号解决方案
如原型号停产、交期较长或价格波动，可提交品牌、型号、铭牌照片、设备应用和数量，由古屋电气协助评估替代方向。
提交询价概要
高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。
主要特点和优点
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。
可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。
大流量排气系统
排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。
下电极升降机构
晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。
易于维护的设计
TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。
应用
- GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。
- SiC、SiO₂的高速加工。
- 蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。
- 複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。
FAQ
SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPC RIE-800iPC 如何确认能否供货？
请提供品牌、型号、数量、使用行业、铭牌照片或旧件照片，古屋电气将协助确认供货、交期和替代可能性。
型号不完整可以询价吗？
可以，可补充产品图片、铭牌、安装尺寸、接口、电压、功率、设备型号和应用场景。
停产或交期长时可以找替代件吗？
可以，需要核对参数、安装尺寸、接口、精度、认证和现场工况，确认后再推荐替代方向。