SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iP RIE-400iP
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SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iP RIE-400iP
概要RIE-400iP是用于ø4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC
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产品参数
| 品牌 | SAMCO |
|---|---|
| 型号/系列 | RIE-400iP |
| 产品名称 | SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iP |
| 分类 | 工业化学品 |
| 订货编码 | RIE-400iP |
| 产地 | 日本 |
简短介绍
概要RIE-400iP是用于ø4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC
应用行业
适用于工业自动化设备、设备维修备件、产线改造、进口件替代、MRO 采购和工程选型场景。具体工况请结合品牌、型号、安装尺寸、接口和电气参数确认。
可供应范围
可协助确认原厂型号、同系列产品、替代型号、停产型号升级件、铭牌识别、图片寻源和非标定制需求。
替代件与停产型号解决方案
如原型号停产、交期较长或价格波动，可提交品牌、型号、铭牌照片、设备应用和数量，由古屋电气协助评估替代方向。
提交询价概要
RIE-400iP是用于ø4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。
主要特点和优点
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"
可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。
大流量排气系统
排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。
端点监测
干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。
易于维护的设计
TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。
应用
GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。
选项
干涉式端点监测器 可进行高精度的端点检测，并可将蚀刻深度控制在所需深度。
FAQ
SAMCO（萨姆科）ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iP RIE-400iP 如何确认能否供货？
请提供品牌、型号、数量、使用行业、铭牌照片或旧件照片，古屋电气将协助确认供货、交期和替代可能性。
型号不完整可以询价吗？
可以，可补充产品图片、铭牌、安装尺寸、接口、电压、功率、设备型号和应用场景。
停产或交期长时可以找替代件吗？
可以，需要核对参数、安装尺寸、接口、精度、认证和现场工况，确认后再推荐替代方向。